Aktuelle Entwicklungen auf dem Gebiet des japanischen Patent- und Gebrauchsmustergesetzes – Seit 1.1.2007 in Kraft getretene Gesetzesänderungen

Mit Wirkung ab 2007 wurden das japanische Patent- und Gebrauchsmustergesetz signifikant geändert. Insbesondere wurde das Patentgesetz in Hinblick auf Teilanmeldungen, Änderungen einer Patentanmeldung im Prüfungsverfahren und die Einreichung fremdsprachiger Patentanmeldungen geändert. In beiden Gesetzen ist neu die Aufnahme von Export als schutzrechtsverletzende Handlung sowie eine Verschärfung der Strafbestimmungen bei Verletzung eines Schutzrechts, einer Exklusivlizenz hieran oder einer Anordnung zur Geheimhaltung. Dieser Artikel befasst sich mit den wesentlichen Gesetzesänderungen.


 

Aktuelle Entwicklungen auf dem Gebiet des japanischen Patent- und Gebrauchsmustergesetzes –Seit 1.1.2007 in Kraft getretene Gesetzesänderungen
Klaus Hinkelmann
Mitteilungen der deutschen Patentanwälte, 2008, Seiten 103-107